鈷靶材，由高純鈷錠進行徑向鍛造和退火處理等工藝制備而成。鈷是制備磁記錄介質、磁記錄磁頭、光電器件和磁傳感器和集成電路等元器件的重要材料。還可以作為半導體薄膜材料使用。
一、主要用途：
適用于磁控濺射制備鋰薄膜
二、適用領域：
1、適用濺射設備品牌：
A.適用設備：單靶濺射系統，雙靶濺射系統，JC500型磁控濺射儀，DE300DL 磁控濺射系統
B.適用設備品牌：
國產品牌：南光機器廠、北京儀器廠、金盛微納、沈陽科儀、JK-LASKER、微電子所等品牌
2、常規尺寸：
1.直徑：1英寸，2英寸，3英寸，4英寸，5英寸等不同直徑
2.厚度：1mm，2mm，3mm，4mm等尺寸可定做
三、產品詳細價格：
貨號 | 產品名稱 | 規格 | 包裝 | 數量 | 交貨期 | 備注 |
Co-T3512 | 鈷 靶材 | 99.95% φ50*2mm | 片 | 1 | 7-10個工作日 |
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Co-T3522 | 鈷 靶材 | 99.95% φ50.8*2mm | 片 | 1 | 7-10個工作日 |
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Co-T3532 | 鈷 靶材 | 99.95% φ60*2mm | 片 | 1 | 7-10個工作日 |
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Co-T3533 | 鈷 靶材 | 99.95% φ60*3mm | 片 | 1 | 7-10個工作日 |
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Co-T3552 | 鈷 靶材 | 99.95% φ76.2*2mm | 片 | 1 | 7-10個工作日 |
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備注：以上均為含稅含運費價格，13%增值稅發票，發票隨貨寄。
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