鈦靶材，由高純度鈦錠熔煉制備而成，適用于濺射鍍膜，在半導體芯片、MEMS傳感器、光電器件、寬禁帶半導體、石墨烯等行業領域應用廣泛。
一、主要用途：
適用于磁控濺射制備鈦薄膜
二、適用領域：
1、適用濺射設備品牌：
A.適用設備：單靶濺射系統，雙靶濺射系統，JC500型磁控濺射儀，DE300DL 磁控濺射系統
B.適用設備品牌：
國產品牌：南光機器廠、北京儀器廠、金盛微納、沈陽科儀、JK-LASKER、微電子所等品牌
2、常規尺寸：
1.直徑：1英寸，2英寸，3英寸，4英寸，5英寸等不同直徑
2.厚度：1mm，2mm，3mm，4mm等尺寸可定做
三、產品詳細價格：
貨號 | 產品名稱 | 規格 | 包裝 | 數量 | 交貨期 | 備注 |
Ti-ST4501I | 鈦 靶材 | 99.995% 15*15*1mm（日本進口料） | 片 | 10 | 7-10個工作日 |
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Ti-T4535I | 鈦 靶材 | 99.995% φ60*5mm（日本進口料） | 片 | 1 | 7-10個工作日 |
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Ti-T4545I | 鈦 靶材 | 99.995% φ75*5mm（日本進口料） | 片 | 1 | 7-10個工作日 |
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Ti-T4586I | 鈦 靶材 | 99.995% φ101.6*6mm（日本進口料） | 片 | 1 | 7-10個工作日 |
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Ti-ST4502I | 鈦 靶材 | 99.995% 100*80*5mm（日本進口料） | 片 | 1 | 7-10個工作日 |
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備注：以上均為含稅含運費價格，13%增值稅發票，發票隨貨寄。
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